[发明专利]硅基板上的图案修复方法和硅基板上的图案修复装置无效
| 申请号： | 201110025366.0 | 申请日： | 2011-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN102140638A | 公开（公告）日： | 2011-08-03 |
| 发明（设计）人： | 西村荣一;田原慈;山下扶美子 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/12 | 分类号： | C23F1/12;C23F1/08 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种硅基板上的图案修复方法和硅基板上的图案修复装置，能够将在通过蚀刻形成于硅基板上的图案之间生长的异物除去，使该图案的形状恢复。该硅基板上的图案修复方法，具有将硅基板收容于腔室内，将硅基板加热到160℃以上的加热工序。 | ||
| 搜索关键词： | 硅基板上 图案 修复 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种硅基板上的图案修复方法，将在通过蚀刻在硅基板上形成的图案之间生长的异物除去，使该图案的形状恢复，该硅基板上的图案修复方法的特征在于，具有：将所述硅基板收容于腔室内，将所述硅基板加热到160℃以上的加热工序。
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