[发明专利]成像光学系统和具有此类型的成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备有效
| 申请号： | 201080007424.0 | 申请日： | 2010-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN102317866A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 汉斯-于尔根.曼;威廉.乌尔里克;埃里克.洛普斯特拉;戴维.莎弗 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B17/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种成像光学系统(7)具有多个反射镜(M1至M6)，其将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)中。成像光学系统(7)具有光瞳遮挡。物场(4)和像场(8)之间的成像光(3)的光束路径中的倒数第一个反射镜(M6)具有用于成像光(3)穿过的通孔(18)。物场(4)和像场(8)之间的成像光(3)的光束路径中的成像光学系统(7)的倒数第二个反射镜(M5)没有用于成像光(3)穿过的通孔。结果，成像光学系统具有多种小像差的可处理组合、可管理的制造以及良好的成像光通过量。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 光学系统 具有 类型 用于 微光 投射 曝光 设备 | ||
【主权项】：
具有多个反射镜(M1至M6)的成像光学系统(7)，所述多个反射镜将物平面(5)中的物场(4)成像为像平面(9)中的像场(8)，所述物场(4)和所述像场(8)之间的成像光(3)的光束路径中的最后一个反射镜(M6)具有用于所述成像光(3)通过的通孔(18)，其特征在于，‑在所述物场(4)和所述像场(8)之间的成像光(3)的光束路径中，在所述像场(8)的前方的成像光束(22)之外布置了所述成像光学系统(7)的倒数第二个反射镜(M5)，‑所述倒数第二个反射镜(M5)的、在所述倒数第二个反射镜(M5)的光学使用的区域内的反射面没有用于所述成像光(3)穿过的通孔。
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