[实用新型]曝光机迈拉膜涨紧框架无效
| 申请号： | 201020588411.4 | 申请日： | 2010-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN201984283U | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 白景文 | 申请（专利权）人： | 北京邮电大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100088 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种曝光机迈拉膜涨紧框架，其包括有：外框架(1)、内框架(2)，外框架(1)上开设有内凹槽(3)，其特征在于：内凹槽(3)中镶嵌有封条(4)，内框架(2)位于外框架(1)内侧，内框架(2)上活动联接有若干顶丝(5)。本实用新型使用时，将迈拉膜的外边沿置于外框架的内凹槽中，通过封条与外框架的镶嵌结合来固定迈拉膜。当需要调节迈拉膜的涨紧力时，旋转顶丝，顶丝将外框架向外顶开外移，使迈拉膜涨紧。本实用新型操作方便，能够调节迈拉膜的涨紧力，提高了曝光质量，延长了迈拉膜的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 机迈拉膜涨紧 框架 | ||
【主权项】：
一种曝光机迈拉膜涨紧框架，其包括有：外框架(1)、内框架(2)，外框架(1)上开设有内凹槽(3)，其特征在于：内凹槽(3)中镶嵌有封条(4)，内框架(2)位于外框架(1)内侧，内框架(2)上活动联接有若干顶丝(5)。
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