[实用新型]一种铜箔后处理系统中硅溶液回收装置无效
| 申请号： | 201020171674.5 | 申请日： | 2010-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN201762473U | 公开（公告）日： | 2011-03-16 |
| 发明（设计）人： | 何成群;薛宏伟;周晓波;赵原森;柴云;白忠波;龚密层;周永森;高青松 | 申请（专利权）人： | 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 |
| 主分类号： | C25D21/16 | 分类号： | C25D21/16 |
| 代理公司： | 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 | 代理人： | 刘建芳;马柯柯 |
| 地址： | 472500 *** | 国省代码： | 河南;41 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种铜箔后处理系统中硅溶液回收装置，包括挤水辊和硅溶液回收单元，挤水辊用于设置在T7处理阶段的T7水洗槽与T8处理阶段T8处理槽之间的上导辊上方并偏于T7水洗槽侧的位置，挤水辊与T7水洗槽、T8处理槽之间上导辊的轴线平行，挤水辊与T7水洗槽、T8处理槽之间上导辊相对外壁之间的距离设置为铜箔的厚度；硅溶液回收单元用于回收硅溶液。采用挤水辊与T7水洗槽、T8处理槽之间的上导辊相配合，将铜箔从T7水洗槽带出的水分挤出并流入T7水洗槽内，防止进入T8处理步骤的铜箔带有过多的水分影响喷硅，此外，利用硅溶液回收单元可将铜箔经过T8处理槽内下导辊、烘箱前下导辊时流下的硅溶液直接回收到T8储液罐中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 铜箔 处理 系统 溶液 回收 装置 | ||
【主权项】：
一种铜箔后处理系统中硅溶液回收装置，其特征在于：包括挤水辊和硅溶液回收单元，挤水辊用于设置在T7处理阶段的T7水洗槽与T8处理阶段T8处理槽之间的上导辊上方并偏于T7水洗槽侧的位置，挤水辊与T7水洗槽、T8处理槽之间上导辊的轴线平行，挤水辊与T7水洗槽、T8处理槽之间上导辊相对外壁之间的距离设置为铜箔的厚度；硅溶液回收单元用于设置于T8处理阶段T8处理槽内以及T8处理槽与烘箱之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于灵宝华鑫铜箔有限责任公司，未经灵宝华鑫铜箔有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201020171674.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
