[发明专利]一种基体表面的TiAlN/TiAlCN多层膜涂层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201010594825.2 申请日: 2010-12-09
公开(公告)号: CN102011090A 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: 汪爱英;陈锋光;孙丽丽 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/35
代理公司: 宁波市天晟知识产权代理有限公司 33219 代理人: 张文忠;任汉平
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基体表面的TiAlN/TiAlCN多层膜涂层及其制备方法,该基体与TiAlN/TiAlCN多层膜涂层之间为过渡涂层,该多层膜涂层由TiAlN膜与TiAlCN膜交替层叠形成周期排列,在一个周期中,TiAlN膜与TiAlCN膜的厚度之和为1纳米~20纳米,TiAlCN膜中C原子的原子百分含量为0.1%~5%。本发明的多层膜涂层具有高硬度、低内应力以及高韧性,能够提高基体的切削效率与抗腐蚀性,延长基体的使用寿命。本发明通过高功率脉冲磁控溅射技术沉积该多层膜涂层,克服了阴极电弧离子镀沉积速率太快无法制备纳米外延膜,以及直流磁控溅射制备薄膜过程中发生靶中毒的问题,通过调节基体的自转和公转速率以及调节对靶的数量,达到控制纳米调制周期的目的。
搜索关键词: 一种 基体 表面 tialn tialcn 多层 涂层 及其 制备 方法
【主权项】:
一种基体表面的TiAlN/TiAlCN多层膜涂层,基体与TiAlN/TiAlCN多层膜涂层之间为过渡涂层,其特征是:所述的TiAlN/TiAlCN多层膜涂层由TiAlN膜与TiAlCN膜交替层叠形成周期排列;所述的TiAlN/TiAlCN多层膜涂层的一个周期中,TiAlN膜与TiAlCN膜的厚度之和为1纳米~20纳米;所述的TiAlCN膜中C原子的原子百分含量为0.1%~5%。
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