[发明专利]等离子体离子源的发生装置有效
申请号: | 201010579490.7 | 申请日: | 2010-12-08 |
公开(公告)号: | CN102573260A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 陈应;徐国宾;杨芃原 | 申请(专利权)人: | 上海华质生物技术有限公司 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46;H01J49/16 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 李仪萍 |
地址: | 200433 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种应用于质谱仪的等离子体离子源的发生装置,包括:等离子体发生腔体,包括作为等离子体发生区的腔室;高压射频源,包括电源以及设于所述等离子体发生腔体外表面的射频电极;与所述等离子体发生腔体相通的传输结构,用于将样品气体和载气引入到所述等离子体发生腔体中;密封件,用于密封所述传输结构与所述等离子体发生腔体之间的连通,为所述等离子体发生腔体提供真空环境。相较于现有技术,本发明的等离子体离子源的发生装置,利用等离子体发生腔体,在低真空环境下可以产生出高密度的等离子体离子源。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 离子源 发生 装置 | ||
【主权项】:
一种等离子体离子源的发生装置,应用于质谱仪中,其特征在于,所述发生装置包括:等离子体发生腔体,包括作为等离子体发生区的腔室;高压射频源,包括电源以及设于所述等离子体发生腔体外表面的射频电极;与所述等离子体发生腔体相通的传输结构,用于将样品气体和载气引入到所述等离子体发生腔体中;密封件,用于密封所述传输结构与所述等离子体发生腔体之间的连通,为所述等离子体发生腔体提供真空环境。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华质生物技术有限公司,未经上海华质生物技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010579490.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。