[发明专利]透镜偏移测量设备、透镜偏移测量方法和光学模块制造方法

摘要

本发明涉及透镜偏移测量设备、透镜偏移测量方法和光学模块制造方法。一种透镜偏移测量设备在光辐射到具有透镜和用以保持该透镜的框体的附透镜构件上，从而产生来自该框体的反射光的状态下，基于通过使来自框体的反射光成像而获得的成像结果来计算该框体的预定部的位置；在光辐射到该附透镜构件上，从而产生通过借助透镜聚焦透射通过该透镜的光而形成的聚焦点的状态下，基于通过使透射通过透镜的光成像而获得的成像结果来计算该聚焦点的位置；以及计算该聚焦点的位置相对于该预定部的偏移量，作为透镜的偏移。

主权项

一种透镜偏移测量设备，包括：辐射单元，其将光辐射到附透镜构件上，所述附透镜构件具有透镜和用以保持所述透镜的框体，从而产生来自所述框体的反射光和通过借助所述透镜聚焦透射通过所述透镜的光而形成的聚焦点；成像单元，其中所述附透镜构件位于所述成像单元的成像范围中；以及图像处理单元，其对通过所述成像单元获得的成像结果执行图像处理并计算所述透镜的偏移，其中所述成像单元使来自所述框体的所述反射光和透射通过所述透镜的所述光成像，以及作为所述图像处理，所述图像处理单元执行：第一过程，在所述第一过程中，基于所述反射光的成像结果来计算所述框体的预定部的位置，第二过程，在所述第二过程中，基于透射通过所述透镜的所述光的成像结果来计算所述聚焦点的位置，以及第三过程，在所述第三过程中，基于所述第一过程和所述第二过程的处理结果来计算所述聚焦点的所述位置相对于所述预定部的偏移量，作为所述透镜的所述偏移。