[发明专利]模具转印点阵法制备光散射聚合物导光板的工艺无效
| 申请号： | 201010291903.1 | 申请日： | 2010-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN101967258A | 公开（公告）日： | 2011-02-09 |
| 发明（设计）人： | 双忠;吴学庆;赵伟毅;宋浩波;司兵;李黔蜀;宋瑜琦;陈国兴;陆前吟 | 申请（专利权）人： | 贵州天控自动化信息工程有限公司 |
| 主分类号： | C08L33/12 | 分类号： | C08L33/12;C08K13/06;C08K9/06;C08K3/36;C08K3/22;C08F120/14;C08F2/44;B29C39/02;G02B6/00 |
| 代理公司： | 贵阳中新专利商标事务所 52100 | 代理人： | 程新敏 |
| 地址： | 550001 贵*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种模具转印点阵法制备光散射聚合物导光板的工艺，将纳米、亚纳米导光粒子经过表面改性后与MMA单体进行原位聚合，得到导光粒子分散母粒；再将得到的导光粒子分散母粒、引发剂、分散剂及增塑剂加入到MMA中进行预聚合，得PMMA预聚体；将PMMA预聚制浆浇铸到带散射点阵的硅玻璃模具中进行聚合，固化出模后得到带散射点阵的纳米改性导光板。本发明采用原位聚合的方式，使纳米、亚纳米导光粒子在原料单体中的有效分散，聚合后得到光粒子分散母粒，然后按常规浇注法PMMA板工艺，得到带散射点阵的纳米改性导光板。该法发挥印刷法和光散射聚合物法各自优势，首先利用点阵将射向表面的光线反射，提高光释出率。 | ||
| 搜索关键词： | 模具 转印点 阵法 制备 散射 聚合物 导光板 工艺 | ||
【主权项】：
一种模具转印点阵法制备光散射聚合物导光板的工艺，其特征在于：将纳米、亚纳米导光粒子经过表面改性后与MMA单体进行原位聚合，得到导光粒子分散母粒（1）；再将得到的导光粒子分散母粒（1）、引发剂、分散剂及增塑剂加入到MMA中进行预聚合，得PMMA预聚体；将PMMA预聚制浆浇铸到带散射点阵（2）的硅玻璃模具（3）中进行聚合，固化出模后得到带散射点阵（2）的纳米改性导光板（4）。
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