[发明专利]模具转印点阵法制备光散射聚合物导光板的工艺

权利要求书

1.一种模具转印点阵法制备光散射聚合物导光板的工艺，其特征在于：将纳米、亚纳米导光粒子经过表面改性后与MMA单体进行原位聚合，得到导光粒子分散母粒（1）；再将得到的导光粒子分散母粒（1）、引发剂、分散剂及增塑剂加入到MMA中进行预聚合，得PMMA预聚体；将PMMA预聚制浆浇铸到带散射点阵（2）的硅玻璃模具（3）中进行聚合，固化出模后得到带散射点阵（2）的纳米改性导光板（4）。

2.根据权利要求1所述的模具转印点阵法制备光散射聚合物导光板的工艺，其特征在于：导光粒子为二氧化硅、二氧化钛、三氧化二铝、纳米二氧化钛或纳米氧化锌中的一种或两种以上的混合物；二氧化硅、二氧化钛以及三氧化铝的粒度均为100～600nm，纳米二氧化钛及纳米氧化锌粒度小于或等于100 nm。

3.根据权利要求1或2所述的模具转印点阵法制备光散射聚合物导光板的工艺，其特征在于：导光粒子表面改性，按质量份数计算，将6～20份偶联剂加入到50～100份乙醇中，在50℃下加入10～20份导光粒子，同时用超声波进行分散，当乙醇挥发完毕后，在80℃下烘干得到表面改性的导光粒子。

4.根据权利要求3所述的模具转印点阵法制备光散射聚合物导光板的工艺，其特征在于：制备导光粒子分散母粒（1），按质量份数计算，将10～20份经过表面改性的导光粒子、52～58份MMA、0.5～0.7份过氧化苯甲酰以及0.6 ～1.0份十二烷基硫醇进行混合，超声分散，得到透明的反应液；将280～320份蒸馏水采用水浴加热至60～70℃后，逐渐将反应液加入到蒸馏水中，并进行搅拌，搅拌转速为750转/分，反应液全部加入后，保持搅拌不变，并在60～70的下保温4小时，然后搅拌冷却至室温，停止搅拌，并将混合物过滤、干燥，得到白色粉末；将该白色粉末浸泡于0.5N的盐酸与无水甲醇的混合溶液中常温下浸泡100 小时，无水甲醇占总量的质量比为75 ％，再进行过滤、干燥后得到PMMA和二氧化硅晶体的复合材料，即为导光粒子分散母粒（1）。

5.根据权利要求3所述的模具转印点阵法制备光散射聚合物导光板的工艺，其特征在于：偶联剂为1～5份乙氧基三甲氧基硅烷及5～15份甲基丙烯酞氧基三甲氧基硅烷。

6.根据权利要求1所述的模具转印点阵法制备光散射聚合物导光板的工艺，其特征在于：PMMA预聚体的制备，按质量份数计算，将90～110份MMA、0.1～0.3份引发剂、0.1～0.3份链转移剂、1～5份增塑剂、0.1～0.5份防老剂以及1～3份导光粒子分散母粒混合并搅拌，升温至80～90℃，反应30分钟～3小时后，停止加热，继续搅拌冷却至室温，排除溶液中的气泡，即得到PMMA预聚体。

7.根据权利要求6所述的模具转印点阵法制备光散射聚合物导光板的工艺，其特征在于：引发剂为过氧化苯甲酰或偶氮二异丁腈；链转移剂为正丁基硫醇。

8.根据权利要求1所述的模具转印点阵法制备光散射聚合物导光板的工艺，其特征在于：将PMMA预聚制浆浇铸到带散射点阵（2）的硅玻璃模具（3）中，排气后送入水箱或热空气烘箱中进行聚合反应，在50～100℃下恒温8～24小时，冷却至40℃后取出后脱模。

9.根据权利要求1所述的模具转印点阵法制备光散射聚合物导光板的工艺，其特征在于：带散射点阵（2）的硅玻璃模具（3）的制备，在硅玻璃模具（3）表面用高温玻璃油墨印刷设计好的散射点阵（2），再通过钢化玻璃工艺流程，在硅玻璃模具（3）得到钢化的同时，得到表面带散射点阵（2）的硅玻璃模具（3）。