[发明专利]纳米级结构体阵列的制造设备与生产方法

摘要

本发明有关于一种纳米级结构体阵列的制造设备与生产方法，制造设备包含一激光源、一微面镜、一准直透镜组与一微棱镜结构阵列，生产方法是使激光源产生的一激光束通过微面镜反射，经准直透镜组而垂直于准直透镜组依序投射至微棱镜结构阵列中沿一加工路径排列的多个微棱镜结构，以使激光束在所投射者中形成二个以上次激光束折射至微棱镜结构下方的光阻层上发生干涉产生干涉图案，通过蚀刻干涉图案的蚀刻区产生多个纳米级结构体形成一纳米级结构体阵列，其中各纳米级结构体的蚀刻区中任二者之间距小于激光束的波长。

主权项

一种纳米级结构体阵列的制造设备，是在一光阻层上产生一包含多个纳米级结构体的纳米级结构体阵列，其特征在于，该纳米级结构体阵列的制造设备包含：一激光源，产生一激光束；一微面镜，以二个以上转动自由度转动，该激光束投射至该微面镜；一准直透镜组，使自该微面镜反射的激光束在穿透该准直透镜组后，垂直该准直透镜组射出；以及一微棱镜结构阵列，设置于该准直透镜组与该光阻层之间，包含多个沿一加工路径排列的微棱镜结构，各微棱镜结构为具有二个以上入射面的一多面体；其中，当该激光束自该微面镜反射并穿透该准直透镜组后，依序投射至该加工路径上的这些微棱镜结构，并在所投射的微棱镜结构中形成二个以上次激光束，该二个以上次激光束折射至该光阻层上发生光干涉效应产生一组干涉图案，该组干涉图案包含多个蚀刻区，这些蚀刻区中任二者之间距小于该激光束的波长，对应这些微棱镜结构所形成的该多组干涉图案通过蚀刻这些蚀刻区，在该光阻层上产生多个纳米级结构体形成该纳米级结构体阵列。