[发明专利]一种用于薄膜硅/晶体硅异质结太阳电池的陷光结构无效

专利信息
申请号: 201010200412.1 申请日: 2010-06-09
公开(公告)号: CN101866961A 公开(公告)日: 2010-10-20
发明(设计)人: 赵雷;王文静 申请(专利权)人: 中国科学院电工研究所
主分类号: H01L31/0392 分类号: H01L31/0392;H01L31/0224
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 关玲
地址: 100080 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种用于薄膜硅/晶体硅异质结太阳电池的陷光结构,所述的陷光结构包括:晶硅衬底(2)、在所述晶硅衬底(2)上的掺杂薄膜硅层(3)、在所述掺杂薄膜硅层(3)上的透明导电电极(4),以及在所述掺杂薄膜硅层(3)和所述透明导电电极(4)之间的金属纳米结构(1)或者在所述透明导电电极(4)之上的金属纳米结构(1)或者在所述透明导电电极(4)内部的金属纳米结构(1)。所述晶硅衬底(2)与所述掺杂薄膜硅层(3)相接的表面是没有经过特意织绒的。本发明利用所述金属纳米结构的表面等离子激元效应来获得陷光效果。
搜索关键词: 一种 用于 薄膜 晶体 硅异质结 太阳电池 结构
【主权项】:
一种用于薄膜硅/晶体硅异质结太阳电池的陷光结构,其特征在于,所述的陷光结构包括:晶硅衬底(2)、在所述晶硅衬底(2)上的掺杂薄膜硅层(3)、在所述掺杂薄膜硅层(3)上的金属纳米结构(1),以及在所述金属纳米结构(1)上的透明导电电极(4);所述晶硅衬底(2)与所述掺杂薄膜硅层(3)相接的表面是没有经过特意织绒的。
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