[发明专利]显影方法无效
| 申请号： | 201010192500.1 | 申请日： | 2010-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN102269939A | 公开（公告）日： | 2011-12-07 |
| 发明（设计）人： | 任亚然;安辉 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;G03F7/32 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种显影方法，该显影方法包括：提供晶片，所述晶片上形成有光敏材料层；显影液喷嘴从原始位置移至所述晶片表面上方喷洒第一显影液；所述显影液喷嘴移回至所述原始位置；向所述显影液喷嘴喷洒第二显影液，以清洗所述显影液喷嘴。所述第二清洗液可有效清洗所述显影液喷嘴，避免显影液喷嘴上的污染物污染晶片，提高半导体器件的电学性能。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 方法 | ||
【主权项】：
一种显影方法，包括：提供晶片，所述晶片上形成有光敏材料层；显影液喷嘴从原始位置移至所述晶片表面上方喷洒第一显影液；所述显影液喷嘴移回至所述原始位置；向所述显影液喷嘴喷洒第二显影液，以清洗所述显影液喷嘴。
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