[发明专利]光加工方法及掩模无效
| 申请号： | 201010125021.8 | 申请日： | 2010-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN101823180A | 公开（公告）日： | 2010-09-08 |
| 发明（设计）人： | 城崎友秀;松井俊辅;七瀬信五;村瀬英寿 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | B23K26/00 | 分类号： | B23K26/00;G03F1/16 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种光加工方法及掩模。该光加工方法包括以下步骤：当将光经由掩模照射到加工物体上时，在与掩模的宽度方向正交的方向上移动光的照射区域，该掩模具有沿宽度方向排列的多个开口；以及当在前段中遍及掩模的一个宽度的光照射并照射区域的移动结束之后在后段中遍及所述掩模的一个宽度的光照射和照射区域的移动时，叠加前段中遍及掩模的一个宽度的光照射和照射区域的移动得到的光照射部分的一部分与后段中遍及掩模的一个宽度的光照射和照射区域的移动得到的光照射部分的一部分，以使得与各个开口相对应的每个照射行中的光照射量相等。 | ||
| 搜索关键词： | 加工 方法 | ||
【主权项】：
一种光加工方法，包括以下步骤：当将光经由掩模照射到加工物体时，在与所述掩模的宽度方向正交的方向上移动所述光的照射区域，该掩模具有沿所述宽度方向排列的多个开口；以及当前段中遍及所述掩模的一个宽度的光照射和照射区域的移动结束之后在后段中遍及所述掩模的一个宽度的光照射和照射区域的移动时，叠加所述前段中遍及所述掩模的一个宽度的光照射和照射区域的移动得到的光照射部分的一部分与所述后段中遍及所述掩模的一个宽度的光照射和照射区域的移动得到的光照射部分的一部分，以使得与各个所述开口相对应的每个照射行中的光照射量相等。
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