[发明专利]用于金属氟化物光学元件的粘性气密性氧化物膜有效

专利信息
申请号: 200980120121.7 申请日: 2009-05-14
公开(公告)号: CN102046552A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: M·J·康杰米;H·施赖伯;王珏 申请(专利权)人: 康宁股份有限公司
主分类号: C03C13/00 分类号: C03C13/00;G02B6/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 樊云飞;周承泽
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及其上具有粘性气密性涂层的单晶碱土金属氟化物光学元件,所述涂层通过化学方式而不仅是范德华力结合到金属氟化物光学元件的表面上,结合能>4电子伏特。可用于涂覆光学元件的材料选自下组:SiO2、F-SiO2、Al2O3、F-Al2O3、SiON、HfO2、Si3N4、TiO2和ZrO2以及前述物质的(任何组合物的)混合物,例如SiO2/HfO2和F-SiO2/ZrO2。用于光学元件的优选碱土金属氟化物是CaF2。优选的涂覆材料是SiO2、F-SiO2、SiO2/ZrO2和F-SiO2/ZrO2。
搜索关键词: 用于 金属 氟化物 光学 元件 粘性 气密性 氧化物
【主权项】:
一种在碱土金属氟化物光学元件上制备粘性气密性涂层的方法,所述方法包括以下步骤:提供真空室,且在真空室内,提供由碱土金属氟化物单晶制成的光学元件,所述元件位于可旋转板上;提供至少一种选定的涂覆材料源或涂覆材料源混合物,利用电子束蒸发所述材料,提供涂覆材料蒸气通量,所述通量从所述材料源出发,经过具有选定形状的掩模,到达所述光学元件;由等离子体源提供等离子体离子;以选定的旋转频率f旋转所述元件;以及将所述涂覆材料沉积在所述光学元件表面,作为涂覆膜,并且在所述材料的沉积过程中,用所述等离子体离子轰击在所述元件上的所述膜,从而在所述元件上形成粘性气密性膜;其中:所述氧化物膜通过化学方式结合到所述元件的氟化物表面上,结合能≥4电子伏特;所述碱土金属氟化物选自下组:MgF2、CaF2、BaF2、SrF2,以及至少两种所述碱土金属氟化物的混合物;以及所述掩模选自下组:部分掩模和反向掩模。
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