[实用新型]全自动双面曝光机有效
申请号: | 200920216232.5 | 申请日: | 2009-09-18 |
公开(公告)号: | CN201532523U | 公开(公告)日: | 2010-07-21 |
发明(设计)人: | 张鸿明 | 申请(专利权)人: | 川宝科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H05K3/00 |
代理公司: | 天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 | 代理人: | 郑永康 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种全自动双面曝光机,包括:机台,于同一轴线上至少设置有入料区、第一面曝光区、下降翻板区、上升供板区、第二面曝光区与出料区;入料移载装置跨设于机台的入料区、第一面曝光区与下降翻板区的上方;第一曝光装置设置于机台的第一面曝光区,而以搭配有升降机构的第一顶升平台;一下降翻板装置设置于机台的下降翻板区;上升供板装置设置于机台的上升供板区;出料移载装置跨设于机台的上升供板区、第二面曝光区与出料区的上方;第二曝光装置设置于机台的第二面曝光区,而以搭配有升降机构的第二顶升平台;单光源曝光模组设置于机台的上方且与各工作区位于同一轴线上。本实用新型具有不增加机台长度即可加装品质提升装置的功效。 | ||
搜索关键词: | 全自动 双面 曝光 | ||
【主权项】:
一种全自动双面曝光机,其特征在于,包括:一机台,于同一轴线上至少设置有入料区、第一面曝光区、下降翻板区、上升供板区、第二面曝光区与出料区;一入料移载装置,跨设于该机台的入料区、第一面曝光区与下降翻板区的上方,而将板件由入料区移载至第一面曝光区,再由第一面曝光区移载至下降翻板区;第一曝光装置,设置于该机台的第一面曝光区,而以搭配有升降机构的第一顶升平台,承接该入料移载装置自入料区移载过来的板件,再由该第一顶升平台将板件顶升贴靠于第一曝光平台的下缘;一下降翻板装置,设置于该机台的下降翻板区,而以一搭配有升降机构及翻转机构的吸板平台,吸着住该入料移载装置自第一面曝光区移载过来的板件,并下降且将板件翻面,而由第一输送平台承接板件;一上升供板装置,设置于该机台的上升供板区,而以搭配有升降机构的第二输送平台,承接自第一输送平台输送过来的板件且上升供板;一出料移载装置,跨设于该机台的上升供板区、第二面曝光区与出料区的上方,而将由该上升供板装置供板的板件移载至第二面曝光区,再由第二面曝光区移载至与出料区;第二曝光装置,设置于该机台的第二面曝光区,而以搭配有升降机构的第二顶升平台,承接该出料移载装置自上升供板区移载过来的板件,再由该第二顶升平台将板件顶升贴靠于第二曝光平台的下缘;一单光源曝光模组,设置于该机台的上方且与各工作区位于同一轴线上,而将单一光源的光束于镜碗中集光后,向上投射至一可切换偏转向的冷光镜,反射后经由第一或第二聚焦镜照射于第一或第二平面反射镜,再反射至第一或第二曲面反射镜,而反射成平行光束照射于第一或第二曝光平台。
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