[发明专利]气体供应系统及方法

摘要

本发明公开了一种气体供应系统，包括主进气管、多级分流管路及汇流装置。所述多级分流管路至少有两级，下一级分流管路与上一级分流管路连通且下一级分流管路的分流管数量是上一级分流管路的分流管数量的n倍，处于同一分流级的各分流管路对称设置，多级分流管路的第一级分流管路与主进气管连通，其中，n为大于等于2的自然数。所述汇流装置开设有均匀分布的喷气孔，多级分流管路的末级管路分别与汇流装置连通。通过多级分流管路对主进气管所引入的气体进行多级分流，从而使汇流装置能喷射出具有较高均匀度的气体，使成膜均匀一致，提高半导体制品的质量稳定性和成品率。相应地，本发明还公开了一种能喷射出具有较高均匀度气体的气体供应方法。

主权项

一种气体供应系统，其特征在于，包括：主进气管，所述主进气管将外界气体发生装置所产生的气体引入；多级分流管路，所述多级分流管路对所述主进气管所引入的气体进行多级分流，所述多级分流管路至少有两级，下一级分流管路与上一级分流管路连通且下一级分流管路的分流管数量是上一级分流管路的分流管数量的n倍，处于同一分流级的各分流管路对称设置，所述多级分流管路的第一级分流管路与所述主进气管连通，其中，n为大于等于2的自然数；汇流装置，所述汇流装置开设有均匀分布的喷气孔，所述多级分流管路的末级管路分别与所述汇流装置连通。