[发明专利]环状部件及其制造方法无效
申请号: | 200910207897.4 | 申请日: | 2009-11-06 |
公开(公告)号: | CN101740297A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 北岛次雄;小林义之 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/04 | 分类号: | H01J37/04;H01J37/32 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及环状部件及其制造方法,根据本发明的环状部件,能够抑制等离子体导致的消耗和生产率的恶化。在对晶片W实施等离子体蚀刻处理的基板处理装置(10)中,该环状部件是收纳于在内部产生等离子体的反应室(17)的聚焦环(24),由在圆周方向上配设的4个单晶硅的圆弧状部件24a~24d构成,在各圆弧状部件24a~24d的上表面24a1~24d1、外侧面24a2~24d2,不出现易消耗的单晶硅的结晶面,例如密勒指数为{100}的结晶面。 | ||
搜索关键词: | 环状 部件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种环状部件,其在对基板实施等离子体处理的基板处理装置中被收纳于在内部产生等离子体的收纳室,该环状部件的特征在于:由在圆周方向上配设的多个单晶材料的圆弧状部件构成,所述单晶材料的易消耗的结晶面不出现在各圆弧状部件的暴露于所述等离子体的面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910207897.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种基于无线远程控制技术的组合插座
- 下一篇:开关插座和电路板组件