[发明专利]X射线传感器及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200910195874.6 申请日: 2009-09-18
公开(公告)号: CN102024808A 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 邱承彬;于祥国;孔杰;祁刚;金立波 申请(专利权)人: 上海天马微电子有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L31/115;H01L31/0232;H01L21/82
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人: 王洁
地址: 201201 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种X射线传感器及其制造方法,该X射线传感器包括多个感测单元,每一感测单元包括光电感应元件区和开关元件区,该光电感应元件区设置光电感应元件,该开关元件区设置开关元件、第一钝化层以及覆盖该开关元件的遮光层,该第一钝化层设置于该开关元件和该遮光层之间,该开关元件包括导电层,该导电层延伸至该光电感应元件区,该光电感应元件包括光电转换层和蚀刻保护层,该导电层和该蚀刻保护层分别形成于该光电转换层的两侧以形成该光电感应元件的两个电极,该遮光层延伸至该光电感应元件区并与该蚀刻保护层电性连接。本发明的X射线传感器的制造方法简单、成本低。
搜索关键词: 射线 传感器 及其 制造 方法
【主权项】:
一种X射线传感器,包括多个感测单元,每一感测单元包括光电感应元件区和开关元件区,该光电感应元件区设置有光电感应元件,该开关元件区设置有开关元件、第一钝化层以及覆盖该开关元件的遮光层,该第一钝化层设置于该开关元件和该遮光层之间,该开关元件包括导电层,该导电层延伸至该光电感应元件区,该光电感应元件包括光电转换层和蚀刻保护层,该导电层和该蚀刻保护层分别形成于该光电转换层的两侧以形成该光电感应元件的两个电极,其特征在于:该遮光层延伸至该光电感应元件区并与该蚀刻保护层电性连接。
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