[发明专利]整流电路引线框架铜带及其制作方法有效
申请号: | 200910025963.6 | 申请日: | 2009-03-16 |
公开(公告)号: | CN101515575A | 公开(公告)日: | 2009-08-26 |
发明(设计)人: | 芮建方;徐仁金;计永飞;管卫星;钱建国;镇亚飞 | 申请(专利权)人: | 常州金方圆铜业有限公司 |
主分类号: | H01L23/495 | 分类号: | H01L23/495;H01L21/48 |
代理公司: | 常州市维益专利事务所 | 代理人: | 何学成 |
地址: | 213126江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种整流电路引线框架铜带,引线框架铜带中各种材料的组份为:铜材料为96.1%-98.85%,铁为1.0%-3.5%,磷为0.1%-1.0%,镍为0.01%-0.03%,以及不可避免的极少量的其他杂质元素,该杂质元素包括:镁、铝、锌,其中镁的组份为0.001%-0.005%,铝的组份为0.001%-0.05%,锌的组份为0.005%-0.01%;引线框架铜带的导电率为90.0%IASC,强度为360-400MPa,延伸率≥8%,维氏硬度HV110-125。本发明的整流电路引线框架铜带导电率高以及延伸率好,同时本发明的铜带还具有强度以及维氏硬度高的优点。 | ||
搜索关键词: | 整流 电路 引线 框架 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种整流电路引线框架铜带,其特征在于:所述引线框架铜带中各种材料的组份为:铜材料为96.1%-98.85%,铁为1.0%-3.5%,磷为0.1%-1.0%,镍为0.01%-0.03%,以及不可避免的极少量的其他杂质元素,该杂质元素包括:镁、铝、锌,其中镁的组份为0.001%-0.005%,铝的组份为0.001%-0.05%,锌的组份为0.005%-0.01%;引线框架铜带的导电率为90.0%IASC,强度为360-400Mpa,延伸率≥8%,维氏硬度HV110-125。
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