[发明专利]磁盘及其制造方法有效
申请号: | 200910001714.3 | 申请日: | 2005-01-12 |
公开(公告)号: | CN101494058A | 公开(公告)日: | 2009-07-29 |
发明(设计)人: | 下川贡一 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | G11B5/725 | 分类号: | G11B5/725;G11B5/84;C10M107/38;C10M177/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈 昕 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供磁盘及其制造方法,该磁盘是在基板上至少具有磁性层、保护层和润滑层,其特征在于,所述润滑层是用含有全氟聚醚、分子量分散度在1.3以下的磁盘用润滑剂在保护层上成膜而成。该方法通过使所述的润滑剂在直到在基板上形成碳系保护层的磁盘的保护层上成膜;形成润滑层,得到磁盘。 | ||
搜索关键词: | 磁盘 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、磁盘,该磁盘是在基板上至少具有磁性层、保护层和润滑层,其特征在于,所述润滑层是用含有全氟聚醚、分子量分散度在1.3以下的磁盘用润滑剂在保护层上成膜而成。
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