[发明专利]加热元件有效
| 申请号： | 200880100651.0 | 申请日： | 2008-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN101765508A | 公开（公告）日： | 2010-06-30 |
| 发明（设计）人： | B·D·钟;B·沙;A·M·富勒;O·伊尔迪林;G·E·克拉克 | 申请（专利权）人： | 惠普开发有限公司 |
| 主分类号： | B41J2/16 | 分类号： | B41J2/16;B41J2/335 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 薛峰;曹若 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了流体喷射装置加热元件(112/412/612/812/822)的实施例。 | ||
| 搜索关键词： | 加热 元件 | ||
【主权项】：
一种制造打印头的加热元件(112/412/612/812/822)的方法，所述方法包括：在衬底(151)上一对间隔开的第一导电元件和第二导电元件(178，179/478，479/678，679/840A，840B/850A，850B)之间形成电阻盘(226/526/726/826)，所述电阻盘具有第一宽度，其中，每个相应的第一导电元件和第二导电元件都限定了以下各项中至少一个：第二宽度(W6)，其明显小于所述电阻盘的第一宽度(W7)；或者台阶形图案，其包括：大致平坦的部分(182/482/682)，其限定了暴露所述衬底的内部窗口(184/484)，并且具有第一厚度；倾斜部分(178，179/478，479/678，679)，其从所述大致平坦的部分向外延伸，并且具有的第二厚度明显大于所述大致平坦的部分的第一厚度；以及其中所述电阻盘在所述大致平坦的部分的内部窗口中延伸；以及在所述电阻盘以及所述相应的第一导电元件和第二导电元件上方形成钝化层(300)；以及在所述钝化层上方形成流体腔室(240/530)，所述流体腔室包括喷射所述流体的孔口。
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- 周文利;朱宇;陈昌盛;向耘宏;蒋履辉;喻研;王耘波;高俊雄 - 华中科技大学
- 2017-03-30 - 2017-11-24 - B41J2/16
- 本实用新型公开了一种基于石墨烯‑碳纳米管复合结构的热喷印头，采用ICP工艺以及PDMS填充深沟的表面平坦化工艺，在硅片衬底上制备主通道、喷墨腔室、进墨通道、喷嘴、喷墨通道；采用阳极键合工艺，以石墨烯碎片作为中间层，将玻璃基底和硅片衬底键合。主通道和喷墨腔室通过进墨通道连通，进墨通道深度小于喷墨腔室深度；喷嘴设置在喷墨腔室底部；碳纳米管‑石墨烯复合结构微气泡发生器阵列和碳纳米管温度传感器阵列制备在玻璃基底对应喷墨腔室的区域，且朝向喷墨腔室设置。该喷头进液关闭可靠、键合强度高、不易污染喷印腔室，制备时精度易于控制。
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