[发明专利]一种匀胶铬板滤光片翻刻工艺

摘要

一种匀胶铬板滤光片翻刻工艺，首先在玻璃基板上镀一层铬金属，再在金属膜上均匀涂敷一层感光胶，然后将母板滤光片贴附在玻璃基板上，光线通过母板滤光片上石墨黑底条纹与感光胶发生反应形成和母板滤光片上石墨条纹一样的感光胶条纹；再玻璃基板放入显影液中进行显影后进行刻蚀掉，刻蚀完毕后用纯水清洗将残余药液冲洗干净，将玻璃基板浸入去胶液中去胶，去胶完毕用纯水清洗后用带过滤器的气枪吹干。本发明的依靠光刻显影原理，在匀胶铬板玻璃基板上进行复制成像，本发明主要用于母板滤光片进行翻印刻录制造出新滤光片，新滤光片与原滤光片几乎是一样的，可以用它来代替原来的滤光片。本发明的原理简单，操作方便，成本较重新购买滤光片低。

主权项

1、一种匀胶铬板滤光片翻刻工艺，其特征在于：1)首先取一块厚度为1.4mm-1.6mm的光学玻璃基板，然后在玻璃基板上镀一层厚度为100±20nm的铬金属，再在金属膜上均匀涂敷一层感光胶，对匀胶铬板玻璃基板及母板滤光片进行清洗；2)曝光，将清洗后的母板滤光片贴附在清洗后的匀胶铬板玻璃基板上，光线通过母板滤光片上石墨黑底条纹的阻挡射到匀胶铬板玻璃基板上与感光胶发生反应形成和母板滤光片上石墨条纹一样的感光胶条纹；3)显影刻蚀，将曝光完毕的匀胶铬板玻璃基板放入显影液中进行显影，将硬化附着在玻璃基板表面的感光胶腐蚀掉，没有硬化的感光胶部分则留下；显影完毕后用纯水清洗将残余药液冲洗掉，然后将显影完毕后的匀胶铬板玻璃基板放入刻蚀液中进行刻蚀，使未硬化的感光胶存留在匀胶铬板玻璃基板，这部分被覆盖的铬金属膜被留下，未被覆盖的部分则被刻蚀掉，刻蚀完毕后用纯水清洗将残余药液冲洗干净4)去胶清洗，将匀胶铬板玻璃基板浸入质量浓度为5％的氢氧化钠溶液中去胶，去胶时间控制在1min±5s，去胶完毕用纯水清洗后用带过滤器的气枪吹干。