[发明专利]正性作用可光成像底部抗反射涂层无效
| 申请号： | 200810210008.5 | 申请日： | 2003-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN101408729A | 公开（公告）日： | 2009-04-15 |
| 发明（设计）人： | J·E·奥伯兰德;R·R·达默尔;李丁术季;M·O·尼瑟尔;M·A·图卡伊 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料日本株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/00;G03F7/09 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王 健 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种新型的吸收性、可光成像并可水性显影的正性作用抗反射涂料组合物，该组合物包含光酸产生剂和聚合物，该聚合物包含至少一种具有酸不稳定基团的单元和至少一种具有吸收性生色团的单元。本发明进一步涉及使用这样的组合物的方法。本发明也涉及一种新型的吸收性、可光成像并可含水碱显影的正性作用抗反射涂料组合物，该组合物包含聚合物、染料和光酸产生剂，该聚合物包含至少一种具有酸不稳定基团的单元。本发明进一步涉及使用这样的组合物的方法。本发明也涉及一种新型的用正性光刻胶和新型可光成像并可水性显影的正性作用抗反射涂料组合物形成正像的方法，其中抗反射涂料包含聚合物，该聚合物包含酸不稳定基团。本发明进一步涉及这样的组合物。本发明也涉及用于将可光成像的抗反射涂料组合物成像的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 作用 成像 底部 反射 涂层 | ||
【主权项】：
1.一种正性、底部、可光成像的抗反射涂料组合物，该组合物能够在含水碱性显影剂中显影且其涂覆在正性光刻胶的下方，其中该抗反射涂料组合物包含光酸产生剂和聚合物，该聚合物包含至少一种单元，该单元具有酸不稳定基团和吸收性生色团。
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