[发明专利]曝光绘图装置

摘要

本发明提供一种曝光绘图装置，在确保高运转率的同时，以简易的照明光学系统来分离成多个光束。曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射紫外线；照明光学系统(30)，将来自光源的光束形成为平行光；有孔构件(20、120)，被配置于来自照明光学系统的平行光上，具有分离成第一光束和第二光束的第一窗及第二窗；第一导光装置及第二导光装置(37－1～37－8、137－1～137－8)，引导在有孔构件上被分离的平行光的第一光束及第二光束；第一及第二空间光调制装置(41)，将在第一导光装置及第二导光装置中引导的第一光束及第二光束进行空间调制；以及第一及第二投影光学系统(60)，将在这些第一及第二空间光调制装置中进行空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。

主权项

1.一种曝光绘图装置，包括：光源，其照射紫外线；照明光学系统，其将来自上述光源的光束形成为平行光；有孔构件，其被配置于来自上述照明光学系统的平行光上，具有分离成第一光束和第二光束的第一窗及第二窗；第一导光装置及第二导光装置，其引导在上述有孔构件上被分离的平行光的第一光束及第二光束；第一及第二空间光调制装置，其将在上述第一导光装置及第二导光装置中引导的第一光束及第二光束进行空间调制；以及第一及第二投影光学系统，将在该第一及第二空间光调制装置中进行空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。