[发明专利]基板的制造方法无效
申请号: | 200810081511.5 | 申请日: | 2008-02-22 |
公开(公告)号: | CN101515096A | 公开(公告)日: | 2009-08-26 |
发明(设计)人: | 李仲明;吴恒忠;陈俊仁;洪建兴;黄坤源;陈晋升 | 申请(专利权)人: | 中华映管股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/136 | 分类号: | G02F1/136;G02F1/1335;G02F1/1333;H01L21/78;H01L21/66 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 陈 亮 |
地址: | 台湾省台北*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种基板的制造方法,包括下列步骤:首先,提供一第一母基板,其至少具有两个第一对位标志。接着,测量这些第一对位标志之间的距离,以得出一第一距离。之后,于第一母基板上形成多个阵列单元。然后,分割第一母基板。此外,测量第一对位标志之间的距离,以得出一第二距离。接着,计算第一距离与第二距离的差值,以得出一补偿值。之后,通过补偿值调整第一对位标志之间的距离,以于一第二母基板上形成至少两个第二对位标志。然后,于第二母基板上形成阵列单元。 | ||
搜索关键词: | 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基板的制造方法,包括:提供一第一母基板,具有多个阵列单元预定区,且该第一母基板至少具有两个第一对位标志;测量该些第一对位标志之间的距离,得出一第一距离;沿该些阵列单元预定区,分割该第一母基板;测量该些第一对位标志之间的距离,得出一第二距离;计算该第一距离与该第二距离的差值,得出一补偿值;以及通过该补偿值调整该些第一对位标志之间的距离,以于一第二母基板上形成至少两个第二对位标志。
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