[发明专利]一种制备硅基金属纳米管的方法无效

专利信息
申请号: 200810058837.6 申请日: 2008-08-22
公开(公告)号: CN101343034A 公开(公告)日: 2009-01-14
发明(设计)人: 马文会;王华;杨斌;徐宝强;刘大春;戴永年;马婷婷;魏奎先;伍继君;熊恒;梅向阳;秦博;杨亚娣;汪镜福 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: B82B3/00 分类号: B82B3/00;C25D5/00
代理公司: 昆明慧翔专利事务所 代理人: 程韵波
地址: 650031*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明涉及一种制备硅基金属纳米管的方法,特别是在硅基底上生长可控制性的金属包括铜、锌、钛、钴、铬或镁等的纳米管的一种方法。以半导体硅片为原料,经电化学腐蚀和金属沉积,制备金属包括铜、锌、钛、钴、铬或镁等的纳米管。该方法采用无掩模无电极,且制备出的金属纳米管更均匀、管径可控制,其发光性能强,并且稳定性高,在微电子领域、光电器件的应用等有更大的发展空间。
搜索关键词: 一种 制备 基金 纳米 方法
【主权项】:
1、一种制备硅基金属纳米管的方法,其特征在于:本发明按以下的步骤实施:(1)清洗:以市售电阻率为0.01Ω·cm~0.5Ω·cm的P型硅片为原料,将其放入浓度为50~99.9wt%的丙酮溶液中进行超声清洗1分~30分;再进行浓度为50~99.9wt%无水乙醇超声清洗1分~30分;放入浓度为60~99.9wt%的硫酸和浓度为10~60wt%的双氧水按体积比为0.5~10∶1的混合溶液中浸泡至不再有气泡放出为止;取出硅片用去离子水清洗1~10次;将清洗过的硅片放入浓度为5~60wt%的氢氟酸与去离子水按体积比为0.5~10∶1的混合液中漂洗5-10分钟;最后将硅片分别放入浓度为50~99.9wt%的丙酮溶液和浓度为50~99.9wt%无水乙醇中超声清洗5分~30分;将处理后的硅片置于50~99.9wt%无水乙醇或50~99.9wt%丙酮中待用;(2)电化学腐蚀:清洗过的硅片按体积比为0.5~1∶5,浓度为5~60wt%氢氟酸和50~99.9wt%无水乙醇的混合液中进行电化学腐蚀5分~120分,其电流密度为5mA/cm2~180mA/cm2;(3)沉积金属:将腐蚀过后的硅片先用去离子水清洗,再浸入含有微量金属种的混合溶液中沉积金属5~30分钟,最后取出硅片清洗干净,得到纳米管成品,所述的含有微量金属种的混合溶液为浓度0.1~5wt%氢氟酸和浓度为20ppb~6000ppb的硝酸铜、硝酸锌、硝酸钛、硝酸钴、硝酸铬或硝酸镁。
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