[发明专利]产生不相干辐射的反射环路系统有效
| 申请号： | 200710109897.1 | 申请日： | 2007-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN101105638A | 公开（公告）日： | 2008-01-16 |
| 发明（设计）人： | J·J·M·巴塞尔曼斯;K·尤雅马 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;大日本网目版制造株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 曾祥夌;王小衡 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种系统和方法用于从相干射束中形成不相干射束。系统包括辐射源和反射环路系统。辐射源产生相干或部分相干射束。反射环路系统接收该部分相干射束，并通过环路或备选通过不重叠环路反射该部分相干射束，以形成不相干射束。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 不相干 辐射 反射 环路 系统 | ||
【主权项】：
1.一种系统，包括：辐射源，它产生相干或部分相干射束；以及反射环路系统，它包括曲面反射装置，并配置成通过环路反射所述部分相干射束，以形成更加不相干的射束。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司;大日本网目版制造株式会社，未经ASML荷兰有限公司;大日本网目版制造株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710109897.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于喷射烟雾云的灭火喷嘴
- 下一篇：地板
