[发明专利]具有改进的光提取效率的发光器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200710097140.5 申请日: 2007-04-12
公开(公告)号: CN101064356A 公开(公告)日: 2007-10-31
发明(设计)人: G·卡纳里昂;D·W·莫斯利 申请(专利权)人: 罗门哈斯公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 沙永生
地址: 美国宾夕*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 揭示了一种发光器件,该器件包括多层叠层和包封层,所述包封层具有与所述多层叠层的发光叠层表面光学相邻的图案化的包封区域。还揭示了一种制造所述包封层和将所述包封层固定于发光叠层表面的方法。
搜索关键词: 具有 改进 提取 效率 发光 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种发光器件,该器件包括:a)多层叠层,该叠层包括:n-掺杂层;光产生层;p-掺杂层,所述多层叠层具有发光叠层表面;b)包封层,该包封层包括:相邻的图案化的包封区域,该区域包括:包括至少一个第一凹陷的第一凹陷组,所述第一凹陷中含有第一凹陷填料;任选的,包含至少一个第二凹陷的第二凹陷组,所述第二凹陷中含有第二凹陷填料;位于所述发光叠层表面上的相邻的图案化的包封表面;所述第一凹陷组和第二凹陷组中的至少一种具有图案,其中:所述图案选自随机图案、周期性图案或它们的组合,所述图案在至少一个横向维度上具有至少为5纳米,且不大于5000微米的特征尺寸;所述周期性图案在至少一个横向维度上具有至少10纳米,且不大于5000微米的周期;所述第一凹陷的最大凹陷深度至少为25纳米,且不大于10000微米;所述第二凹陷的最大凹陷深度至少为25纳米,且不大于10000微米;所述第一凹陷和第二凹陷中的至少一种具有与所述外部图案化的包封表面相重合的凹陷开口;任选的,包含包封材料的未图案化的包封区域;所述第一凹陷填料的折射率与所述第二凹陷填料和所述包封材料中至少一种的折射率之差至少为0.001,且不大于3.0;所述第一凹陷填料、第二凹陷填料和所述包封材料中至少一种的平均密度至少为0.03克/厘米3,且不大于0.60克/厘米3。
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