[发明专利]投影曝光装置

摘要

本发明提供一种投影曝光装置，抑制了装置的水平方向及垂直方向的大小而使其设置容积比现有的装置的设置容积小。投影曝光装置(20)使用配置于铅直方向的曝光台(24)，将掩模(M)的图案利用照射光投影在膜带状的工件(F)上而进行曝光，该投影曝光装置包括：搬运机构(25)，其将工件于铅直方向朝曝光台移动；以及投影光学机构，其具有戴森光学系统(23)，该戴森光学系统(23)配置在与该搬运机构以曝光台为边界的相邻位置上，戴森光学系统配置成使得入射到该戴森光学系统的照射光的光轴以及从该戴森光学系统射出的照射光的光轴与曝光台上的工件成正交。

主权项

1.一种投影曝光装置，该投影曝光装置使用配置于铅直方向上的曝光台，利用照射光将掩模的图案投影在膜带状的工件上而进行曝光，其特征在于，该投影曝光装置包括：搬运机构，其将所述工件于铅直方向上朝所述曝光台移动；以及投影光学机构，其具有戴森光学系统，该戴森光学系统配置在与该搬运机构以所述曝光台为边界的相邻位置上，所述戴森光学系统配置成使得入射到该戴森光学系统的照射光的光轴以及从该戴森光学系统射出的照射光的光轴与所述曝光台的工件成正交。