[发明专利]高纯度偏磷酸铝及其制造方法无效
申请号: | 200710084813.3 | 申请日: | 2004-03-09 |
公开(公告)号: | CN101037194A | 公开(公告)日: | 2007-09-19 |
发明(设计)人: | 竹内宏介;畠透;小西俊介;高桥和宏 | 申请(专利权)人: | 日本化学工业株式会社 |
主分类号: | C01B25/44 | 分类号: | C01B25/44;C03C3/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及高纯度偏磷酸铝,其特征在于,各杂质金属元素的浓度在5ppm以下。偏磷酸铝通过包括以下工序的制造方法适宜的制造:使铝化合物与磷酸加热反应制造磷酸二氢铝反应液的第一工序;在预先铺有偏磷酸铝粉末的烧结容器中加入并烧结第一工序中得到的磷酸二氢铝反应液的第二工序;和,粉碎第二工序得到的烧结物的第三工序。 | ||
搜索关键词: | 纯度 磷酸 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种高纯度偏磷酸铝,其特征在于,杂质金属的各元素浓度为5ppm以下,该金属为铁、铬、镍、锰或铜中的至少一种。
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