[发明专利]一种干法清洗等离子刻蚀设备反应腔的方法无效
| 申请号： | 200710040653.2 | 申请日： | 2007-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN101307447A | 公开（公告）日： | 2008-11-19 |
| 发明（设计）人： | 楼丰瑞;徐旻;张建;石锗元 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23F4/00 | 分类号： | C23F4/00 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 2012*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种干法清洗等离子刻蚀设备反应腔的方法，该等离子刻蚀设备具有一用于产生射频输出的射频发生器。现有技术需拆开等离子刻蚀设备反应腔并通过人工方式清洗该反应腔，存在着清洗不彻底、浪费时间及人力成本的问题。本发明的干法清洗等离子刻蚀设备反应腔的方法先驱动等离子刻蚀设备至一稳定状态；然后启动射频发生器输出一预设功率的射频，并在反应腔中通入预设流量的氧气，进行一预设时间的干法清洗。采用本发明的方法无需打开反应腔即可彻底清洗反应腔，简化了清洗过程，提高了清洗质量，另可大大节约人力成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 等离子 刻蚀 设备 反应 方法 | ||
【主权项】：
1、一种干法清洗等离子刻蚀设备反应腔的方法，该等离子刻蚀设备具有一用于产生射频输出的射频发生器，其特征在于，该方法包括以下步骤：(1)驱动等离子刻蚀设备至一稳定状态；(2)启动射频发生器输出一预设功率的射频，并在反应腔中通入预设流量的氧气，进行一第一预设时间的干法清洗。
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