[发明专利]氧化钌涂层在基体上的沉积无效
| 申请号： | 200680051492.0 | 申请日： | 2006-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN101365657A | 公开（公告）日： | 2009-02-11 |
| 发明（设计）人： | L·叶;M·P·小雷明顿 | 申请（专利权）人： | 皮尔金顿北美公司;皮尔金顿集团有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/245 | 分类号： | C03C17/245;C23C16/40 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 林毅斌;韦欣华 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了在制品上产生二氧化钌或类钌金属涂层的CVD法。所述制品优选用作建筑玻璃，并优选具有低辐射和防阳光性能。所述方法包括提供热玻璃基体，所述基体具有待沉积所述涂层的表面。将含钌前体、含氧化合物和任选水蒸气与惰性载气朝向待涂布表面并沿着所述表面，使所述含钌前体和含氧化合物在所述玻璃基体表面上或附近反应形成二氧化钌涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 涂层 基体 沉积 | ||
【主权项】：
1.一种通过化学气相沉积法在基体上产生二氧化钌涂层或类钌金属涂层的方法，所述方法包括：提供热玻璃基体，所述基体具有待沉积所述涂层的表面；将惰性载气、含钌前体和含氧化合物朝向待涂布表面并沿着所述表面；和使所述含钌前体和含氧化合物在所述玻璃基体表面上或附近反应形成二氧化钌涂层或类钌金属涂层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皮尔金顿北美公司;皮尔金顿集团有限公司，未经皮尔金顿北美公司;皮尔金顿集团有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200680051492.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
