[发明专利]具有变迹壁的像素化光学构件及其制造方法和在制造透明光学元件中的用途无效
| 申请号： | 200680034140.4 | 申请日： | 2006-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN101268404A | 公开（公告）日： | 2008-09-17 |
| 发明（设计）人： | 克里斯蒂安·博韦;让－保罗·卡诺;吉勒·马蒂厄 | 申请（专利权）人： | 埃西勒国际通用光学公司 |
| 主分类号： | G02C7/08 | 分类号： | G02C7/08;G02C7/10;G02F1/1333;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 楼仙英 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种透明光学构件(10)，该透明光学构件包括至少一个平行于所述构件的表面并置的透明单元阵列(15)，每个单元由具有平行于所述构件表面的变迹轮廓的壁(18)隔开，以及每个单元被密封并含有至少一个具有光学特性的物质。特别是所述单元(15)可具有由壁形成的高斯轮廓。本发明还涉及一种用于制造这种光学构件的方法及其用于制造光学元件的用途。特别地所述光学元件可以是眼镜。 | ||
| 搜索关键词： | 有变 像素 光学 构件 及其 制造 方法 透明 元件 中的 用途 | ||
【主权项】：
1. 一种生产透明光学元件的方法，包括生产透明光学构件的步骤，该透明光学构件具有至少一个平行于所述构件的一个表面并置的单元阵列，每个单元被密封并含有具有光学特性的物质，这些单元由具有变迹轮廓的壁隔开。
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