[发明专利]光学薄膜的制造方法、和使用由这样的制造方法制得的光学薄膜的图像显示装置无效
申请号: | 200680006472.1 | 申请日: | 2006-01-30 |
公开(公告)号: | CN101133347A | 公开(公告)日: | 2008-02-27 |
发明(设计)人: | 梅本清司;川本育郎;武田健太郎 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;B05D7/24;B32B7/02;B32B27/28;B32B27/34;G02F1/13363 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李香兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种具有优异耐久性、有助于薄型化、可以防止热不均匀、且可以良好防止黑色显示下的漏光的光学薄膜的制造方法。该制造方法包括:将含有液晶材料的涂布液涂布于取向基材上的工序;使液晶材料取向而在基材表面形成第一光学补偿层的工序;将第一光学补偿层转印至透明保护薄膜的表面的工序;在透明保护薄膜的表面层合偏振镜的工序;以及在第一光学补偿层的表面形成第二光学补偿层的工序。该偏振镜与该第一光学补偿层互相配置于透明保护薄膜的相反侧。第一光学补偿层与第二光学补偿层是以各自的慢轴与偏振镜的吸收轴所成角度在特定范围内的方式形成。 | ||
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【主权项】:
1.一种光学薄膜的制造方法,含有:在经取向处理的基材上涂布含有液晶材料的涂布液的工序;在该液晶材料显示液晶相的温度下对该被涂布的液晶材料进行处理而使其取向,在该基材表面形成第一光学补偿层的工序;将在该基板表面形成的该第一光学补偿层转印至透明保护薄膜(T)的表面的工序;在透明保护薄膜(T)的表面层合偏振镜的工序;和在该第一光学补偿层的表面形成第二光学补偿层的工序;该偏振镜与该第一光学补偿层互相隔着透明保护薄膜(T)而配置成相反侧;该第一光学补偿层是以该第一光学补偿层的慢轴与该偏振镜的吸收轴所成角度成为+17°~+27°或-17°~-27°的方式形成;该第二光学补偿层是以该第二光学补偿层的慢轴与该偏振镜的吸收轴所成角度成为+85°~+95°的方式形成。
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