[实用新型]曝光机无效
| 申请号： | 200620162332.0 | 申请日： | 2006-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN201015024Y | 公开（公告）日： | 2008-01-30 |
| 发明（设计）人： | 刘宇翔;薛文明 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及半导体工艺，特别涉及半导体工艺中用于微影制程的曝光机。本实用新型曝光机包括用于容置晶舟的曝光机端口，该端口包括：侧壁，具有侧壁开口用于曝光机剔除晶圆的输送；底板，与侧壁围成容置晶舟的半封闭空间，所述半封闭空间具有晶舟入口，与底板相对；沟槽，设置于底板上，与晶舟上的限位条配合；限位块，设置在底板上的沟槽两个纵向边沿，用于配合沟槽固定晶舟上的限位条；插槽，在底板上开设且与晶舟上的插片配合；挡块，用于止挡晶舟宽部的梯形凹口，位于底板上，且远离侧壁开口。本实用新型曝光机的端口能够避免晶舟在曝光机端口中放置位置颠倒，从而防止曝光机损坏。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种曝光机，包括用于容置晶舟的曝光机端口，其特征在于，所述曝光机端口包括：侧壁，具有侧壁开口用于曝光机剔除晶圆的输送；底板，与侧壁围成容置晶舟的半封闭空间，所述半封闭空间具有晶舟入口，与底板相对；沟槽，设置于底板上，与晶舟上的限位条配合；限位块，设置在底板上的沟槽两个纵向边沿，用于配合沟槽固定晶舟上的限位条；插槽，在底板上开设且与晶舟上的插片配合；挡块，用于止挡晶舟宽部的梯形凹口，位于底板上，且远离侧壁开口。
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