[实用新型]化学机械研磨机台的清洗装置无效
| 申请号： | 200620049080.0 | 申请日： | 2006-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN200984567Y | 公开（公告）日： | 2007-12-05 |
| 发明（设计）人： | 陈肖科 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B08B1/04 | 分类号： | B08B1/04;B08B13/00 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 2012*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种化学机械研磨机台的清洗装置，包括驱动装置，隔板，刷子，连接驱动装置和刷子的转动轴，隔板位于驱动装置和刷子中间，且隔板上设有通孔，其中，该机台还包括一个弹性防护膜，其设置在隔板表面。与现有技术相比，本实用新型中的弹性防护膜可以将刷子和驱动装置隔开，有效地防止皮带的颗粒和轴承的油污颗粒孔污染到刷子和晶片，提高晶片的良率。同时，能有效地防止化学品液体就可能穿过孔污染到皮带和轴承，造成轴承和皮带寿命的减少，从而提高机台的可使用率。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 机台 清洗 装置 | ||
【主权项】：
1、一种化学机械研磨机台的清洗装置，包括驱动装置，隔板，刷子，连接驱动装置和刷子的转动轴，隔板位于驱动装置和刷子中间，且隔板上设有通孔，其特征在于：该机台还包括一个弹性防护膜，其设置在隔板表面。
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