[发明专利]多层配线基板及其制造方法有效
申请号: | 200610127687.0 | 申请日: | 2006-09-07 |
公开(公告)号: | CN1929123A | 公开(公告)日: | 2007-03-14 |
发明(设计)人: | 中村顺一;永田欣司 | 申请(专利权)人: | 新光电气工业株式会社 |
主分类号: | H01L23/498 | 分类号: | H01L23/498;H01L23/12;H01L21/48;H05K1/02;H05K3/46 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 顾红霞;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开了一种多层配线基板,通过以预定数目层叠配线层105、108、110、112和绝缘层104、106、107、109构成该多层配线基板,并且该多层配线基板包括设置为一层或多层的加强配线层103,该加强配线层的厚度为35至150μm。 | ||
搜索关键词: | 多层 配线基板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种多层配线基板,包括:配线层和绝缘层,所述配线层和绝缘层以预定数目层叠,其中,至少一个所述配线层形成为加强配线层,所述加强配线层的厚度为35至150μm。
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