[发明专利]镁合金蚀刻工艺无效
| 申请号： | 200610123186.5 | 申请日： | 2006-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN101173358A | 公开（公告）日： | 2008-05-07 |
| 发明（设计）人： | 李三旭 | 申请（专利权）人： | 佛山市顺德区汉达精密电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/22 | 分类号： | C23F1/22;C23F1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 528308广东省佛*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种镁合金蚀刻工艺，其先将镁合金工件进行前处理，再在其表面涂覆感光胶，然后按照加工图样进行感光胶的曝光，而后进行显影及坚膜处理，之后则浸渍于蚀刻溶液中，该蚀刻溶液主要包括：硝酸90～130g/L、硝酸钠40～60g/L、酒石酸0.5～3g/L、蚀刻反应抑制剂1～5g/L，蚀刻完成后则脱膜，得到产品。本发明提供的镁合金蚀刻工艺，其蚀刻液通过加入蚀刻反应抑制剂，能够很好的控制蚀刻反应进行的速度，并且该蚀刻液兼备化学抛光的作用，可使得蚀刻后的镁合金表面呈现光亮的平面效果，另其加工工艺简单，操作方便，具有广泛的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 镁合金 蚀刻 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种镁合金蚀刻溶液，其特征在于，主要包括：硝酸 90～130g/L；硝酸钠 40～60g/L；酒石酸 0.5～3g/L；蚀刻反应抑制剂 1～5g/L。
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