[发明专利]用于去除透明导电膜及光致抗蚀剂的剥离液组合物

摘要

本发明涉及一种用于去除光致抗蚀剂和透明导电膜的剥离液组合物。具体地，本发明提供一种能去除半导体装置上透明导电膜的有机酸类透明导电膜去除剂及由有机胺及溶剂组成的双组分以上的剥离液组合物中包含上述去除剂的剥离液组合物。该组合物还可再含有作为抗离析剂使用的乙二醇醚化合物。本发明组合物中含有有机酸类透明导电膜去除剂，由此可去除透明导电膜。而且，上述透明导电膜去除剂中含有硫磺，也可作为防腐剂使用，可防止下部金属膜的金属布线的腐蚀，由此在保存由目前的LCD制备过程所制作出的金属图案的条件下，可以去除已形成图案的光致抗蚀剂，并有选择地或全部地去除涂敷在金属布线上光致抗蚀剂上的透明电极和位于金属布线上的透明电极。

主权项

1、一种透明导电膜去除剂，包括选自由化学式1所示的化合物、由化学式2所示的化合物、由化学式3所示的2-巯基丙酸、由化学式4所示的N-(2-巯基丙酰)甘氨酸、由化学式5所示的硫代苯甲酸以及草酰乙酸中的至少一种化合物，[化学式1][化学式2][化学式3][化学式4][化学式5]其中，上述化学式1及化学式2中，R和R’分别选自碳原子数为1～10的烷基、羟烃基、烷基胺、羧酸基及硫代酸基中的独立的基团。