[发明专利]光掩膜复验方法与系统无效
| 申请号： | 200610108223.5 | 申请日： | 2006-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN101118388A | 公开（公告）日： | 2008-02-06 |
| 发明（设计）人： | 黄新政 | 申请（专利权）人： | 力晶半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 吕晓章;李晓舒 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光掩膜复验方法。根据多个工艺权重因子对多个光掩膜进行排序，并且根据计算所得的权重决定上述光掩膜的优先权以进行派工。根据工艺状况依序决定是否对上述光掩膜执行复验的流程。若要复验，则对其中一光掩膜执行一复验程序。将复验后的光掩膜的优先权进行重置，并且对下一光掩膜执行上述派工与上述复验的流程。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩膜 复验 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种光掩膜复验方法，包括下列步骤：根据多个工艺权重因子对多个光掩膜进行排序；根据计算所得的权重决定上述光掩膜的优先权以进行派工；根据工艺状况依序决定是否对上述光掩膜执行复验的流程；若要复验，则对其中一光掩膜执行一复验程序；以及将复验后的光掩膜的优先权进行重置，并且对下一光掩膜执行上述派工与上述复验的流程。
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