[发明专利]X光曝光机无效
| 申请号： | 200610098891.4 | 申请日： | 2006-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN101109904A | 公开（公告）日： | 2008-01-23 |
| 发明（设计）人： | 郑正元;詹德凤;郑奎文 | 申请（专利权）人： | 东元电机股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 余朦;方挺 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种可对特定区域进行曝光且曝光分辨率较佳的X光曝光机，其包括可控制局部发光的X光背光源和液晶显示面板。液晶显示面板配置于可控制局部发光的X光背光源的外侧。可控制局部发光的X光背光源可受到控制，使其发光表面的局部区域发出X光。通过控制液晶显示面板的像素，X光通过液晶显示面板的强度会有所变化。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种X光曝光机，包括：可控制局部发光的X光背光源，所述X光背光源可受到控制而在其发光表面的局部区域发出X光；以及液晶显示面板，配置于所述可控制局部发光的X光背光源外侧。
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