[发明专利]放射线敏感性树脂组合物及液晶显示元件用间隔体无效
申请号: | 200610059403.9 | 申请日: | 2006-03-02 |
公开(公告)号: | CN101030036A | 公开(公告)日: | 2007-09-05 |
发明(设计)人: | 一户大吾;梶田彻 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/20;G03F7/26;G03F7/00;G02F1/133 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 孙秀武;邹雪梅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种放射线敏感性树脂组合物,该组合物含有使共聚物(α)和含游离异氰酸酯基不饱和化合物(β)反应而得到的[A]聚合物,所述共聚物(α)是不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、含羟基不饱和化合物、及其他的不饱和化合物的共聚物,所述的含游离异氰酸酯基不饱和化合物(β)是通过二异氰酸酯化合物和含羟基聚合性不饱和化合物的反应而得到的化合物。该组合物高灵敏度且高分辨率,采用1,200J/m2左右或以下的曝光量也得到充分的间隔体形状,能够形成弹性回复性、耐摩擦性、与基板的附着性、耐热性等优异的液晶显示元件用间隔体。 | ||
搜索关键词: | 放射线 敏感性 树脂 组合 液晶显示 元件 间隔 | ||
【主权项】:
1.一种放射线敏感性树脂组合物,其特征在于,含有使共聚物(α)和含游离异氰酸酯基不饱和化合物(β)反应而得到的[A]聚合物,所述共聚物(α)是(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、(a2)含羟基不饱和化合物、及(a3)其他的不饱和化合物的共聚物,所述的含游离异氰酸酯基不饱和化合物(β)是通过(b1)用下述式(1)表示的二异氰酸酯化合物和(b2)含羟基聚合性不饱和化合物的反应而得到的化合物,OCN-W-NCO (1)在式(1)中,W表示用下述式(i)-(ix)表示的二价基团,
其中,n是1-12的整数;![]()
![]()
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JSR株式会社,未经JSR株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610059403.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。