[发明专利]用天然高岭土制备碳化硅晶须/氧化铝复合陶瓷粉的方法无效
申请号: | 200610059323.3 | 申请日: | 2006-03-02 |
公开(公告)号: | CN1821175A | 公开(公告)日: | 2006-08-23 |
发明(设计)人: | 邹正光;龙飞;顾涛 | 申请(专利权)人: | 桂林工学院 |
主分类号: | C04B35/565 | 分类号: | C04B35/565 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 541004广西壮族*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | 本发明公开了一种用天然高岭土制备碳化硅晶须/氧化铝复合陶瓷粉的方法。以天然高岭土和炭源为原料,炭源为石墨或碳黑无机碳或高分子有机物;高岭土∶炭源的摩尔比为1∶3,球磨混均;干燥后用高铝坩埚装载置入气氛炉中;气氛炉经抽真空后充入一个大气压的氩气做为保护气体;升温至额定温度1450℃~1550℃,升温速率为每分钟10℃~15℃,保温时间2~4个小时,然后随炉自然冷却,获得碳化硅晶须/氧化铝纳米级、亚微米级复合粉。本发明原料低廉易得,合成工艺简单,工艺过程易控。制备的碳化硅晶须/氧化铝复合陶瓷粉具有理想的形貌和两相均匀性。 | ||
搜索关键词: | 天然 高岭土 制备 碳化硅 氧化铝 复合 陶瓷 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用天然高岭土制备碳化硅晶须/氧化铝复合陶瓷粉的方法,其特征在于采用天然高岭土精矿和炭源为原料,高岭土∶炭源的摩尔比为1∶3,球磨混均;干燥后用高铝坩埚装载置入气氛炉中;气氛炉经抽真空后充入一个大气压的氩气作为保护气体;升温至额定温度1450℃~1550℃,升温速率为每分钟10℃~15℃,保温时间2~4个小时,然后随炉自然冷却,获得碳化硅晶须/氧化铝。
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