[发明专利]涂敷·显影装置

摘要

本发明提供一种包括多个单位块的集合体的涂敷·显影装置。第1单位块层叠体和第2单位块层叠体配置在前后方向的不同位置上。显影用单位块配置在最下层，备有包括进行曝光后的显影处理的显影单元在内的多个处理单元以及在这些单元之间进行基板输送的输送机构。涂敷用单位块配置在显影用单位块的上方，备有包括进行曝光前的涂敷处理的涂敷单元的多个处理单元以及在这些单元之间进行基板输送的输送机构。涂敷用单位块配置在第1单位块层叠体和第2单位块层叠体两者上。根据反射防止膜和抗蚀剂膜的层叠位置关系，确定曝光前的晶片在涂敷·显影装置内经过的涂敷用单位块。曝光后的晶片不通过涂敷用单位块，仅通过显影用单位块。

主权项

1.一种涂敷·显影装置，是备有承载块、处理块、以及能与曝光装置连接的接口块的涂敷·显影装置，将借助承载器输入到前述承载块中的基板交接至前述处理块，在前述处理块中将包括抗蚀剂膜的涂敷膜形成在基板上，经由前述接口块将基板送出到前述曝光装置中，在前述处理块中对经由前述接口块而返回的曝光后的基板进行显影，然后将基板交接到前述承载块中，a)前述处理块备有多个单位块，各单位块具有：用于在基板上涂敷药液的液体处理单元、对基板进行加热的加热单元、对基板进行冷却的冷却单元、和在这些单元之间输送基板的单位块用输送器，并且，在各单位块中，形成有从前述承载块一侧朝向前述接口块一侧延伸的输送路径，b)在前述处理块中，设置有：层叠多个前述单位块而成的第1单位块层叠体、层叠多个前述单位块而成的第2单位块层叠体，前述第1单位块层叠体配置在前述承载块一侧，前述第2单位块层叠体配置在前述接口块一侧，c)在前述第1单位块层叠体和前述第2单位块层叠体之间，在位于对应的高度位置上的单位块之间分别配置有用于在这些单位块之间交接基板的中间台，d)前述第1单位块层叠体备有：底部反射防止膜用单位块，包括用于在涂敷抗蚀剂液之前的基板上涂敷反射防止膜用的药液的液体处理单元；抗蚀剂膜用单位块，包括用于在基板上涂敷抗蚀剂液的液体处理单元；显影用单位块，包括用于对曝光后的基板涂敷显影液而进行显影的液体处理单元，e)前述第2单位块层叠体备有：抗蚀剂膜用单位块，包括用于在基板上涂敷抗蚀剂液的液体处理单元；上部反射防止膜用单位块，包括用于在涂敷了抗蚀剂液之后的基板上涂敷反射防止膜用的药液的液体处理单元；显影用单位块，包括用于对曝光后的基板涂敷显影液而进行显影的液体处理单元，f)前述第2单位块层叠体的抗蚀剂膜用单位块设置在与前述第1单位块层叠体的底部反射防止膜用单位块对应的高度位置上，前述第2单位块层叠体的上部反射防止膜用单位块设置在与前述第1单位块层叠体的抗蚀剂膜用单位块对应的高度位置上，前述第2单位块层叠体的显影用单位块设置在与前述第1单位块层叠体的显影用单位块对应的高度位置上，g)具备下述处理模式：第1处理模式，包括下述工序，即、在前述第1单位块层叠体的底部反射防止膜用单位块中在基板上形成反射防止膜，经由与该单位块对应的中间台而将基板输送到前述第2单位块层叠体的抗蚀剂膜用单位块中，在该单位块中在基板上形成抗蚀剂膜；第2处理模式，包括下述工序，即、在前述第1单位块层叠体的抗蚀剂膜用单位块中在基板上形成抗蚀剂膜，经由与该单位块对应的中间台而将基板输送到第2单位块层叠体的上部反射防止膜用单位块中，在该单位块中在基板上形成上部反射防止膜。