[发明专利]抛光垫无效
| 申请号： | 200580048296.3 | 申请日： | 2005-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN101119829A | 公开（公告）日： | 2008-02-06 |
| 发明（设计）人： | 铃木辰俊 | 申请（专利权）人： | 东邦工程株式会社;井上株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 吴鹏;马江立 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供了一种具有新颖结构的抛光垫，该抛光垫可应用于非常精确的各种抛光加工例如CMP法。在抛光垫的背面(20)上形成沿周向延伸的环形背面凹槽(22)。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 | ||
【主权项】：
1.一种薄盘形的抛光垫，该抛光垫适于通过使其背面结合在抛光设备的支承面上而安装在抛光设备上，并且适于通过使其正面在加工对象例如半导体晶片上来进行抛光操作，该抛光垫的特征在于：以相同的横截面形状、相同的径向间距和相同数量在抛光垫的正面和背面上围绕抛光垫的中心轴线同心地形成多个环形凹槽。
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