[发明专利]图案微细化用涂膜形成剂和使用其形成微细图案的方法无效
| 申请号： | 200510069037.0 | 申请日： | 2005-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN1693994A | 公开（公告）日： | 2005-11-09 |
| 发明（设计）人： | 菅田祥树;金子文武;立川俊和;上野直久 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种涂膜形成剂、及使用该涂膜形成剂形成微细图案的方法，该涂膜形成剂是一种按以下方式用于形成微缩图案的涂膜形成剂：在具有光致抗蚀剂图案的基板上涂覆该涂膜形成剂，利用该涂膜的热收缩作用缩小光致抗蚀剂图案的间隔，从而形成微细图案，其特征在于，该涂膜形成剂含有至少以甲基丙烯酸和/或甲基丙烯酸甲酯作为结构单体的水溶性聚合物。通过本发明，能够提供一种涂膜形成剂，以及使用该涂膜形成剂形成微细图案的方法，该涂膜形成剂的曝光极限范围宽，能够使光致抗蚀剂图案的尺寸控制反映为微细化图案的尺寸控制性，并且使热收缩作用后的光致抗蚀剂图案的形状保持为矩形而避免其顶部变为弧形，热收缩率高。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 微细 化用 形成 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于图案微细化的涂膜形成剂，是一种用于按以下方式形成微缩图案的涂膜形成剂：在具有光致抗蚀剂图案的基板上涂覆该涂膜形成剂，利用该涂膜的热收缩作用缩小光致抗蚀剂图案的间隔，从而形成微细图案，其特征在于，所述涂膜形成剂含有至少以甲基丙烯酸和/或甲基丙烯酸甲酯作为结构单体的水溶性聚合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京应化工业株式会社，未经东京应化工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510069037.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
