[发明专利]一种冶炼化学级金属硅的还原剂无效
| 申请号： | 200510026545.0 | 申请日： | 2005-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN1876567A | 公开（公告）日： | 2006-12-13 |
| 发明（设计）人： | 彭达;邹学柏;梁跃云;孙林 | 申请（专利权）人： | 上海广济硅材料有限公司;内蒙古鄂尔多斯电力冶金股份有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/023 | 分类号： | C01B33/023;C01B33/025;C22B5/10 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘清富 |
| 地址： | 201203上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种冶炼化学级金属硅的还原剂，其包括硅石、石油焦及烟煤，但不包括木炭，其中硅石与还原剂中固定炭含量总和的质量配比保持在2.7∶1.3－2.9∶1.1之间。通过上述还原剂，能够运用国内储藏丰富、价格便宜、采购方便的各种原煤来冶炼化学级金属硅，降低了冶炼金属硅的成本，不再使用木炭，保护了国内越来越少的森林资源，产生了巨大的企业经济效益和社会效益。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 冶炼 化学 金属硅 还原剂 | ||
【主权项】：
1.一种冶炼化学级金属硅的还原剂，其特征在于：包括硅石、石油焦及烟煤，其中硅石与还原剂中固定炭含量总和的质量配比保持在2.7∶1.3-2.9∶1.1之间。
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