[发明专利]掺钕钆镓石榴石激光晶体的生长方法无效
申请号: | 200410067129.0 | 申请日: | 2004-10-13 |
公开(公告)号: | CN1621576A | 公开(公告)日: | 2005-06-01 |
发明(设计)人: | 姜本学;赵志伟;徐晓东;宋平新;徐军;王晓丹 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | C30B29/28 | 分类号: | C30B29/28;C30B15/00 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种掺钕钆镓石榴石激光晶体的生长方法,主要是采用氧化钆、氧化镓、氧化钕、氧化铈为原料按照比例采用两步合成法制备原料,在98%氮气+2%氧气条件下用提拉法生长激光晶体,解决了现有的技术中因为掺Nd2O3而引入O2-所导致的晶格畸变问题,提高了晶体的抗辐照能力改善了Nd:GGG晶体的光谱和激光性能。 | ||
搜索关键词: | 掺钕钆镓 石榴石 激光 晶体 生长 方法 | ||
【主权项】:
1、一种掺钕钆镓石榴石激光晶体的生长方法,其特征在于包括以下步骤:①按下列摩尔配比称量下列各原料:原料 molGd2O3 3(1-x-y)Ga2O3 5.1Nd2O3 yCe2O3 6x其中x的取值范围:0.001mol≤X≤0.005mol. y的取值范围:0.005mol≤y≤0.1mol②将上述原料经充分混合后,用液压机压块,在1200℃下烧结12个小时;③装入提拉法生长单晶炉,抽真空,充入98%氮气+2%氧气,晶体生长的主要参数为:提拉速度=2-5mm/h,旋转速度=10-15rpm④晶体生长完毕,采用原位退火的方法缓慢降至室温,取出晶体。
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