[发明专利]贮格围堰及配线图案的形成方法,电光学装置及电子机器有效
申请号: | 200410055861.6 | 申请日: | 2004-08-04 |
公开(公告)号: | CN1582091A | 公开(公告)日: | 2005-02-16 |
发明(设计)人: | 丰田直之 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | H05K3/06 | 分类号: | H05K3/06;H05K1/09;H05B33/26 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李香兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供生产性好,并且能够形成形状良好的贮格围堰的贮格围堰形成方法。通过对设有含升华性材料的升华层(2)的基体材料(1)照射光,使升华性材料升华,在基体材料(1)上形成区划该基体材料(1)的所定区域的贮格围堰B。 | ||
搜索关键词: | 围堰 线图 形成 方法 光学 装置 电子 机器 | ||
【主权项】:
1.一种贮格围堰的形成方法,其特征在于:通过对设有含升华性材料的升华层的基体材料照射光,使所述升华性材料升华,在所述基体材料上形成区划该基体材料的所定区域的贮格围堰。
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