[发明专利]用作157纳米微石印术的光致抗蚀剂,氟聚合物和方法无效
| 申请号： | 03819026.5 | 申请日： | 2003-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN1675263A | 公开（公告）日： | 2005-09-28 |
| 发明（设计）人： | A·E·费林;F·L·查特三世;V·A·佩特罗夫;B·E·斯马特;W·B·法纳姆 | 申请（专利权）人： | E.I.内穆尔杜邦公司 |
| 主分类号： | C08F14/18 | 分类号： | C08F14/18;G03C1/73 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陈文青 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种聚合物，它具有(a)衍生自有至少一个氟原子共价连接到烯不饱和碳原子上的烯不饱和化合物的至少一种重复单元和(b)衍生自下述结构(I)的烯不饱和环状化合物的至少一种重复单元，其中n是0，1或2；R1到R4独立地是H；C1－C10烷基或烷氧基，任选地被卤素或醚氧基取代；或是C6－C20芳基。这些聚合物可用来制备光致抗蚀剂组合物和涂覆的基底。 | ||
| 搜索关键词： | 用作 157 纳米 石印 光致抗蚀剂 聚合物 方法 | ||
【主权项】：
1.一种含氟共聚物，它包含：a)衍生自有至少一个共价地连接到烯不饱和碳上的氟原子的烯不饱和化合物的至少一种重复单元；b)从下式结构的烯不饱和环状单体中衍生出来的至少一种重复单元：![]()
其中n是0，1或2；R1到R4独立地是H；C1-C10烷基或烷氧基，任选地被卤素或醚氧基取代；或是C6-C20芳基。
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